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Calibrage du mode « stress » et du mode « petit-signal »
Description générale du banc de stress
Table des matières
Introduction générale
Bibliographie
Chapitre I. Fiabilité des dispositifs à base de GaN
I.1. Introduction
I.2. Technique de vieillissement conventionnelles
I.2.1. Vieillissement accéléré sous stockage thermique
I.2.2. Vieillissement accéléré sous polarisation inverse à haute température
(HTRB)
I.2.3. Test de durée de vie à haute température (HTOL)
I.2.4. Vieillissement sous courant de drain de repos (IDQ) ou à fort courant
de drain (IDSS)
I.2.5. Vieillissement sous signal à haute fréquence
I.3. Application des techniques de stress
I.3.1. Stress statique – contexte composant
I.3.1.a. Stabilité des contacts et interfaces métal/semi-conducteur
I.3.1.b. Stabilité du contact Schottky
I.3.1.c. Effet piézoélectrique inverse
I.3.1.d. Effet des électrons chauds
I.3.1.e. Effet de l’auto-échauffement
I.3.2. Stress dynamique – contexte composant/circuit
I.3.2.a. Contexte composant
I.3.2.b. Contexte circuit
I.4. Conclusion
Bibliographie
Chapitre II. Développement d’un banc de stress thermique
à haute fréquence
II.1. Introduction
II.2. Description générale du banc de stress
II.2.1. Montage expérimental
II.2.2. Interface Homme/Machine
II.2.3. Calibrage du mode « stress » et du mode « petit-signal »
II.2.4. Discussion
II.2.5. Procédure de stress
II.3. Résultats de vieillissement de composants HEMTs GaN
II.3.1. Description de la technologie des dispositifs sous test
II.3.2. Dérive de la puissance de sortie du « driver »
II.3.3. Résultats de stress HF en bande C
II.3.4. Effet induit par l’acquisition des paramètres [S] durant le stress HF
II.3.5. Discussion sur l’évolution des paramètres DC et HF
II.3.6. Evolution des paramètres [S] durant les stress HF
II.4. Conclusion et perspectives d’amélioration
Bibliographie
Chapitre III. Simulation physiques TCAD de dispositifs
HEMTs GaN
III.1. Introduction
III.2. Description partielle de la structure étudiée
III.3. Modèles et paramètres utilisés dans la simulation
III.3.1. Le transport des porteurs
III.3.2. Le modèle de transport
III.3.3. Le modèle de mobilité des porteurs
III.3.4. Le modèle de polarisation
III.3.5. Le modèle de génération-recombinaison des porteurs dans le volume
III.3.6. Le modèle d’émission thermoïonique
III.3.7. Le modèle de fuite par effet tunnel des porteurs
III.4. Modélisation du gaz d’électrons bidimensionnel
III.5. Arbre de modélisation analytique des marqueurs statiques
des transistors HEMTs GaN possiblement évolutifs durant
un stress
III.5.1. Equations analytiques
III.5.2. Arbre de modélisation
III.6. Etude TCAD des dégradations observées suite à un stress
HTOL : modélisation du ΔVTH, ΔIDS et ΔRON par des charges
fixes FC dans la structure
III.6.1. FC sous la grille : interface métal/GaNcap, GaNcap/AlGaN et
AlGaN/GaN
III.6.2. FC dans les zones hors grille : interface AlGaN/GaN entre sourcegrille
et grille-drain
III.6.3. FC dans les zones source-grille, grille, et grille-drain : interface
AlGaN/GaN
III.6.4. FC sur les bordures du contact de grille
III.7. Conclusion et perspectives
Bibliographie
Chapitre IV. Conception d’amplificateurs micro-ondes
mono-étage classe A en bande C
IV.1. Introduction
IV.2. Circuit hybride
IV.2.1. Caractérisation des transistors MOS-HEMT GaN
IV.2.2. Méthodologie de conception
IV.2.2.a. Réseau de polarisation et découplage
IV.2.2.b. Microcâblage par fil (wire bonding)
IV.2.2.c. Stabilité petit-signal
IV.2.2.d. Réseaux d’adaptation
IV.2.2.e. Performances simulées du circuit en fonction des transistors
IV.2.3. Réalisation du prototype
IV.3. Circuit MMIC
IV.3.1. Configuration du simulateur électromagnétique Momentum
IV.3.2. Etude fréquentielle du modèle d’inductance
IV.3.2.a. Valeur de l’inductance du modèle
IV.3.2.b. Effet de la largeur de la spire du modèle
IV.3.2.c. Effet de l’espacement inter-spire du modèle
IV.3.2.d. Effet de l’espacement spire-masse du modèle
IV.3.2.e. Conclusion
IV.3.3. Performances du transistor MOS-HEMT GaN
IV.3.3.a. Caractéristiques statiques
IV.3.3.b. Caractéristiques dynamiques
IV.3.4. Méthodologie de conception
IV.3.4.a. Performances par éléments localisés idéaux
IV.3.4.b. Performances par éléments localisés réels et lignes CPW
IV.4. Conclusion
Bibliographie
Conclusion générale
Résumé
Liste des publications